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Wafer Edge를 Exposure하는데 사용되는 Lens Part이다.
Optic Fiber 를 거치지 않고 Lamp House에서 직광형 경통을 거쳐 Wafer의 Edge에 UV를 직접 조사하는 방식으로
광효율을 극대화하였다. |
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◈ Optic Fiber로 인한 광 손실을 제거
◈ Slit Size를 최대화로 Processing 시간 단축
◈ 흄에 의한 오염방지 대책으로 N2 Blowing 기능 채택 |
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| 구
분 |
Resist
Slop |
| 반응 PR |
I-Line용 PR |
< 100nm |
| DUV용 PR
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< 20nm |
| ArF용 PR |
< 20nm |
| Slit Mask Size
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10 ⅹ 4 |
| 입광 Type |
직광형 |
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